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제3장 기관별 정보화 현황 제2절 3극 특허청 Ⅱ. 미국특허청(USPTO) 1. 정보화 이력 <미국특허청의 정보화 이력> 연도 : 1980 - 특허출원서 위치 추적 및 모니터링 시스템 (PALM: Patent Application Location and Monitoring System) 개시 1983 - 상표출원서 위치 추적 및 모니터링 시스템 (TRAM: Trademark Reporting and Monitoring System) 개시 1984 - 상표검색시스템(T-search) 개시 1985 - 전자상표출원서 처리시스템 개시 1986 - 특허문헌 Text 전자검색 개시 1987 - 특허문헌 Image 전자검색 개시 1989 - 특허·상표 전자도서관 개시 1990 - 전자 특허출원서 처리시스템 개시 1998 - 상표 온라인 출원 개시 2000 - 특허 온라인 출원 개시 2003.06 - 모든 등록 특허출원의 전자화 작업 개시 2004 - 전자출원 서류철 시스템(IFW: Image File Wrapper) 개시 2006.03 - PDF 기반의 특허 전자출원 개시 2007.03 - PDF 기반의 상표 전자출원 개시 *참조: 「주요국 특허청 정보화 현황」, 특허청, 2003 2. 미션 및 전략 가. 조직전략계획(USPTO Strategic Plan 2007-2012) &#8728; 2007-2012년까지의 5개년 간의 특허청 운영 기본계획으로, 일반국민 및 내부 심사관의 의견 수렴을 거쳤으며, 특허자문위원회(Patent Public Advisory Committee) 및 상표자문위원회 (Trademark Public Advisory Committee) 등의 자문을 통하여 업계의 의견을 반영함 &#8728; 2003년도에 수립된 “21C 전략계획(21st Century Strategic Plan)”을 기초로 하되, 심사의 속도와 질, 특허행정의 전산화, 재택근무 및 심사관 증원 등 거의 모든 측면에서 최고의 실적을 올린 2006년도의 실적에 비추어 수정·보완한 계획임 ** 비전 : 지재권의 보호 및 정책에 대한 국제적 선도 ** 전략목표 : &#8728; Goal 1: 특허 품질 및 적시성 극대화 &#8728; Goal 2: 상표 품질 및 적시성 극대화 &#8728; Goal 3: 국내외에서의 지재권 보호 - 지재권 보호 및 지재권 침해 대응 방안을 위한 노력 및 과제 지원 - 국제 지재권 실행에 대한 통일된 표준안 마련의 지속적 지원 - 국내 지재권 이슈에 대한 정책 조언 제공 - 국제적 지재권 정보 및 교육 제공을 통한 발명과 경쟁력 제고 &#8728; Management Goal: 조직적 우수성 달성 ** 핵심현안 : &#8728; 특허와 상표 출원의 급격한 양적 성장, 특허 기술의 난이도 증대 및 심사 품질에 대한 중요성으로 인한 업무량의 증가 &#8728; 특허 관련 법·제도의 복잡성 증가 &#8728; 국내외에서의 미국 지재권에 대한 표절 및 도용 &#8728; 전자적 환경 기반의 운영 체제로의 전환 *출처: USPTO Strategic Plan 2007-2012, USPTO, 2006 나. 정보화 전략계획(OCIO Strategic Information Technology Plan) &#8728; 정보기획실(OCIO)의 전략계획은 21세기 미국특허청의 전략계획과 연계하여 확립된 것으로써, 정보기술이 미국특허청의 임무 및 비전을 수행하는 데 있어 주도적이거나 결정적인 역할을 수행하게 되는 분야를 다루고 있음 &#8728; 급격하게 증가하는 업무량의 증가에 등의 내부적 이슈에 대해 기존 시스템에 대한 개선 및 통합, Data 처리를 위한 인프라의 현대화를 계획하고 있음 &#8728; 또한 일관적이고 품질 높은 검색 및 심사 서비스 제공과 빠른 심사 결과 제공을 위한 정보화 기술의 활용이 대두 되고 있음 다. 출원심사 단축 정책(Accelerated Patent Examination Procedure) &#8728; 2006년 8월 느린 출원 심사기간에 따른 불만을 해결하기 위해서, 출원서의 최종 결정까지 소요되는 기간을 12개월로 단축 시킬 계획을 발표함 &#8728; 현재 수정된 출원심사(AE: Application Examination)를 시행 중에 있으며, 2007년 3월 처음으로 새롭게 개정된 출원심사(AE)를 통해 특허등록을 함 &#8728; PTMS(Petition To Make Special)라는 특별 심사 신청을 통해 AE(Application Examination)를 받을 수 있으며, 이는 미국특허청에서 정한 요건들에 부합하는 것 이외에도 심사관이 인터뷰를 요청할 경우 이에 응해야 함 &#8728; PTMS 요구사항 - 출원서는 3개 이상의 독립항과 20개 이하의 전체 항을 포함해야 함 출원서는 종속항을 포함하지 않을 수도 있음 - 출원자는 출원의 상고 기간 동안 어떠한 종속항의 특허성 여부에 대해 따로 논의하지 않을 것을 동의해야 함 - 청구항들은 반드시 single invention으로 보내져야 함 &#8728; AE(Application Examination)는 EFS(Electronic Filing System:전자출원 시스템)를 통하여 온라인으로 신청할 수 있으며, 요금 또한 온라인으로 납부함 * 출처: 1) PTMS FORM, USPTO, 2007 from: http://www.uspto.gov/web/forms/sb0028_fill.pdf 2) Revised Accelerated Examination Program and Petition to Make Special Procedures, USPTO, 2006