미래태양전지기술연구회

일본 특허청은 ‘지적재산입국’ 실현을 위한 ‘신산업창조전략’ 및 ‘지적재산추진계획 2006’에 따라 지적재산정책을 강력하게 추진하며 총액 1190억 엔(전년대비 4억엔 증가)의 2007년도 지적재산정책 관련 예산안 등의 개요를 공표했다. 중심이 되는 시책은 1) 세계 최고 수준의 신속·적확한 특허심사의 실현, 2) 글로벌 권리취득의 촉진과 모방품 대책의 강화, 3) 지역·중소기업의 지적재산 활용에 관한 지원, 4) 지적창조 리사이클 활성화를 위한 환경정비 등이다. 각 시책마다 이하와 같은 개요를 설명하고 있다. 1. 세계 최고 수준의 신속·적확한 특허심사의 실현 ‘심사대기기간’을 2013년에 11개월로 단축하기 위한 시책을 종합적으로 실시하여 최종적으로는 심사대기 기간 제로를 목표한다. - 624.9억엔(638.8억 엔) (1) 선행기술조사 외주의 강화-184.9억 엔(167.1억 엔) (2) 업무·시스템의 최적화-33.8억 엔(26.9억 엔) (3) 학술 문헌 등의 데이터베이스 정비-2.1억 엔(신규) (4) 임기부 심사관의 증원-98명 2. 글로벌한 권리취득의 촉진과 모방품 대책의 강화 산업계와 제휴하여 지적재산제도의 국제 조화와 해외에서의 권리 취득 신속화·편리성 향상을 목표하며 모방품 침해가 심각한 아시아에서 지적재산보호를 위한 지원을 강화한다.-27.1억 엔(24.8억 엔) (1) 지적재산제도의 국제조화와 협력의 증진 각 국 정부와의 교섭 및 WIPO(세계지적소유권기관)에서의 논의를 통해 지적재산제도의 국제 조화를 추진하며 외국 지적재산청과의 심사결과 상호이용 등을 추진함으로써 일본 기업의 글로벌한 권리 취득을 지원한다. ○ ‘특허심사 하이웨이’ 대상확대를 위한 추진 ○ 일본과 미국, 유럽 3극이 주도하는 국제적인 제도 조화의 추진 ○ 개도국에 대한 심사협력 추진, 심사체제구축의 지원 (2) 아시아 등에서의 지적재산보호와 모방품 대책 강화-12.9억 엔(12.0억 엔) ○ 아시아 진출기업에 대한 상담기업·정보 제공-6.6억 엔(5.9억 엔) ○ 침해발생국의 지적재산청 직원, 단속기관 등의 능력향상 지원-4.5억 엔(4.7억 엔) ○ 모방품 대책 캠페인 실시-1.7억 엔(1.4억 엔) (3) 국내외의 디자인 보호강화-1.3억 엔(신규) 3. 지역·중소기업의 지적재산활용에 대한 지원 지적재산 면에서 지역경제의 활성화에 공헌하기 위해 지역지적재산전략본부가 중심이 되어 중소기업의 권리 취득 등을 종합적으로 지원한다. 또한 지역이 육성하는 브랜드 보호를 위해 도입된 지역단체상표제도(2006년 4월부터), 서비스마크 제도의 소매업 등 확대를 도모하고 이의 활용을 촉진한다.-29.4억 엔(26.6억 엔) (1) 지역의 전략적인 지적재산시책의 전개-6.8억 엔(6.2억 엔) (2) 중소기업의 권리 취득 등 지원-12.1억 엔(6.0억 엔) ○ 중소기업 등 특허선행기술조사 지원사업-6.1억 엔(4.8억 엔) ○ ‘지적재산보호처’와의 제휴사업-3.0억 엔(신규) ○ 지역의 지적재산전략 지원 인재의 육성사업-2.2억 엔(1.0억 엔) ○ 지역단체 상표제도 등의 주지, 원활한 실시-0.7억 엔(0.2억 엔) 4. 지적재산 창조 사이클 활성화를 위한 환경정비 신속한 정보제공·인재육성, 산업계의 지적재산전략 고도화를 위한 추진 등을 통해 창조, 보호, 활용되는 지적재산창조 사이클 활성화를 위한 환경정비를 실시한다.-149.0억 엔(136.0억 엔) (1) 지적재산권 정보제공과 인재육성의 추진-142.3억 엔(127.7억 엔) (2) 특허와 관련된 출원, 심사청구 구조의 개혁을 위한 추진 출처: http://news.braina.com