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- 마스크 제조비용을 15% 삭감할수있는 45nm 세대용 마스크 제조장치 - Sigma 7500 II는, 공간광학변조기술(SLM: spatial light modulator)을 도입하고 있다 (그림1). Sigma 7500 II의 기본적인 개념은 축소투영 노광장치와 동일하고, 마스크에 상당하는 부분에 SLM부가 있다. SLM에 의해 고속이면서 미세한 패턴형성이 가능하게되고, 45nm 세대용 마스크제조에 적용할 수 있었다. 그 외에 Sigma 7500 II는, 'Linearity Equalizer'라고 불리는 OPC 기능을 도입함으로서, 200nm(웨이퍼상에서 50nm)까지 패턴의존성을 제어하고 있다. 미세패턴의 형성에서는, 파장이 248nm인 엑시머 레이저광(KrF)을 이용하기 때문에, 전자빔 제조장치에 뒤떨어지지만, Sigma 7500 II는 45nm 세대용 마스크의 60~70&에 대응할 수 있다고 한다. 현재, LSI나 평판형 디스플레이(FPD)용 마스크 제조장치는 전자빔과 레이저광의 어느 한쪽이 사용되고 있다. 현시점에서, 전자빔 마스크제조장치는 '뉴얼 테크놀로지'와 '일본전자' 두 회사가, 레이저 마스크제조장치는 'Micro Laser System'사 만이 제조하고 있다. 후자의 장치는 80%가 FPD용이고, 이용하는 회사 대부분은 일본메이커이다. 금번 Micro Laser System사가, 45nm 세대용 마스크에 대응하는 레이저 마스크제조장치를 발표함으로서, 동사는 금후 LSI용 마스크제조장치분야에도 가세할 것으로 예상된다. 한편, '히타치 하이테크놀로지'는 전자빔 마스크제조장치의 신규개발을, 미국 Applied Materials, Inc.은 레이저 마스크제조장치의 신규개발을 중지하고 있다. * 상기 내용의 원문은 techon.nikkeibp.co.jp에 실려 있습니다. 출처: 특허청 지식관리시스템, 심병로