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나노임프린트 리소그래피 : 기술방법과 재료물질의 필수요건 분석자 서문 1. 개요 2. NIL 금형 2.1 금형제조 2.2 금형표면준비 2.3 연성불소 고분자 금형 3. NIL 레지스트 3.1 열가소성 레지스트 3.2 UV 경화성 레짓트 3.3 새로운 물질의 개발 3.3.1 실록산 혼성중합체 3.3.2 빠른 열경화용 액체 레지스트 3.3.3 실온 나노임프린팅을 위한 UV 경화용 액체 레지스트 3.4 그 외의 임프린트용 물질 4. 나노임프린트 공정 4.1 공동충진공정 5. 다양한 NIL 기술 5.1 역-나노임프린팅 기술 5.2 융합형 나노임프린트 기술과 포토리소그래피 기술 분석자 결론 Reference 출처: 특허청 KMS, 심병로