금요정책사랑방

- 한·미 "특허심사 하이웨이” 시범 시행 합의 - 한-미 특허심사하이웨이의 시행으로 앞으로 우리 국민이 미국에 특허출원하기가 더욱 편리해지고, 심사결과도 더 신속히 받을 수 있게 될 전망이다. ※ 특허심사하이웨이의 개념 A, B국가에 공통으로 특허가 신청된 경우에, A국에서 특허가능하다는 결정이 내려지면, B국은 A국의 심사결과를 활용하여 해당 특허출원을 다른 출원에 비하여 신속하게 심사하는 제도 한·미 양국 특허청은 한·미 양국에 공통으로 제출된 특허출원으로서 어느 한쪽 국가에서 긍정적인 심사결과를 받으면, 다른 국가에서는 해당 특허출원을 다른 것보다 우선하여 심사하는 내용을 골자로 하는 『한-미 특허심사하이웨이』를 2008년 1월 1일부터 시범 시행하기로 합의하였다. 이번 한·미 특허심사하이웨이는 한·일 특허심사하이웨이에 이어 우리청과 선진 특허청간에 두 번째 시행하는 것으로서, 이를 통하여 미국 특허청이 우리 특허청의 심사품질을 높이 평가하고 있다는 것을 알 수 있으며 국제 특허행정 분야에서 높아진 우리 특허청의 위상을 다시 한번 확인 할 수 있게 되었다. 미국의 현행 평균 1차 심사처리기간은 22.6개월(2006년 기준)이며, 특허심사하이웨이를 이용하여 우리 출원인이 한국에서 미국으로 조기심사를 신청하는 경우 1차 심사처리기간이 최장 9개월 정도 소요되므로, 13.6개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다. 이로 인해 우리 출원인의 특허기술이 조기에 사업화가 가능하게 되는 등 사회·경제적 비용 절감 효과가 매우 클 것으로 예상된다. 전상우 특허청장은 지난 5월 5개국(한·미·일·중·EU) 특허청장회담에 참석하여 한·일, 미·일 양국간에 실시되고 있는 특허심사하이웨이를 양자간 또는 다자간으로 확대할 것을 제안한 바 있다. 이에 대해 미국특허청은 전폭적인 지지를 표명하였고, 지난 6월 한국특허청에 양국간 특허심사하이웨이를 추진할 것을 공식 요청하여 금번 합의에 이르게 된 것이다. 양국 특허청장은 오는 9월 제네바에서 양청장간 회담을 개최하고 『한-미 특허심사하이웨이』합의서에 공식적으로 서명할 예정이며, 양국간 특허심사하이웨이는 심사적체물량의 해소 및 심사처리기간의 단축에 크게 기여할 것으로 기대된다. 붙임 : [참고자료] 가 포함된 보도자료 1부. 문의 : 산업재산정책본부 국제협력팀 사무관 배여울 (042-481-5066)