[IP노믹스] 한국 특허 환경 11위...미국 GIPC 발표

한국 특허 환경이 세계 11위라는 평가 결과가 나왔다. 특허 출원은 세계 5위권이지만 보완사항이 많은 것으로 나타났다. 저작권과 상표권, 영업비밀 등을 포함한 전체 지식재산(IP) 관련 평가는 세계 10위로 집계됐다. 

<한국 지식재산 분야별 세계 경쟁력 비교 / 자료 : 미국 GIPC>

 

<한국 GIPC 전체 순위 / 자료 : 미국 GIPC>

 

◇특허 환경, 38개국 중 11위 
 

미국 상공회의소 산하 글로벌지식재산센터(GIPC)가 최근 발표한 `2016년 국제지식재산지수`를 보면 우리 특허 환경은 7점 만점에 5.85점을 획득, 38개국 중 11위를 차지했다. 미국과 영국 등 7개국이 6.5점으로 공동 1위를 차지했다. 일본은 6.3점으로 8위, 중국은 4.1점으로 17위를 차지했다.

<한국 IP 분야별 순위 / 자료 : 미국 GIPC>

 

일곱 개 항목을 평가하는 특허 환경 지수에서 한국은 △특허권 보호기간 △컴퓨터로 구현하는 발명의 특허 적격성 △특허제품·기술 관련 강제실시권의 입법 기준·이용 △의약품 관련 특허존속기간 연장 네 항목에서 만점(1점)을 받았다. 

하지만 △특허요건(0.75점) △규제적 데이터 보호기간(0.6점) △의약품 관련 특허집행·해결방안(0.5점) 등에서 약점을 노출했다. 조사대상국에 처음 포함된 지난 2015년과 비교하면 특허요건이 0.5점에서 0.75점으로 올랐지만 의약품 관련 특허집행·해결방안과 규제적 데이터 보호기간 등은 제자리 걸음이다.

<작년 5월 중국 쑤저우 PESC 국제회의장에서 열린 `제8차 IP5 청장회의`에서 5개국 관계자들이 공동선언문 채택 후 자리를 함께 했다. (왼쪽부터 존 샌디지 세계지식재산기구 사무차장, 키하라 요시타케 일본 특허청 차장, 베누아 바티스텔리 유럽특허청장, 션창위 중국 특허청장, 최동규 한국 특허청장, 러셀 슬라이퍼 미국특허청 차장)>

 

 

특히 올해 GIPC 조사대상국에 작년(30개국)보다 8개국이 추가되면서 한국 특허 환경은 총점이 0.25점 높아졌지만 순위는 9위에서 11위로 밀렸다. 올해 조사대상국에 포함된 스웨덴(공동 1위)과 이탈리아(9위)가 한국보다 높은 평가를 받았다. 

◇전체 IP 환경은 10위 

저작권과 상표권 등을 포함한 전체 IP 환경은 10위로 집계됐다. 항목별로 △저작권 8위 △상표권 1위 △??약 가입·비준 13위 등을 기록했다.

세부적으로 보면 저작권은 6점 만점에 4.74점을 획득했다. △저작권 등 권리 침해 방지용 독점권 부여 법적 조치 △온라인 불법복제 대응용 협력 활동 증진 제도 △디지털 저작권 관리 규정 등은 만점을 받았다. 반면에 △저작권 등 보호기간(0.74점) △저작권 등 권리 제한·예외 범위(0.75점) △정부 정보통신기술(ICT) 체제용 특허 소프트웨어 라이선스 관련 지침 및 정책의 명확한 수립(0.25점) 등에서는 감점을 받았다.

2점 만점인 영업비밀·시장진입은 작년(1.5점)보다 하락한 1.25점을 기록했다. 영업비밀 보호는 0.75점으로 지난해와 같지만 시장진입장벽이 작년(0.75점)보다 0.25점 낮은 0.5점을 기록했다. 해당 항목이 11위에서 17위로 하락한 것도 이 때문이다. 

<한국 지식재산 분야별 점수 / 자료 : 미국 GIPC>

 

◇GIPC “정부기관 SW 라이선스·영업비밀 등 보완해야” 

GIPC는 한국 IP 환경 강점으로 △빠른 정책 집행 △견고한 상표보호법 체계·집행 △잘 정비된 온라인 저작권 체계 등을 꼽았다. 그 대신 한국이 IP 환경을 전반적으로 개선하려면 영업비밀 보호를 보완하고 정부기관이 소프트웨어 라이선스를 더 엄격하게 시행해야 한다고 권고했다.

조사대상국이 공개한 자료에 기반을 두고 IP 환경을 측정·평가한 GIPC 보고서는 국가별 양자·다자회담에 참고자료로 쓰일 정도로 공신력을 평가받는 자료다. 조사 발표는 올해가 네 번째다. 한국은 세 번째 평가인 지난 2015년부터 조사대상국에 포함됐다. 2015년에는 한국의 전체 IP 환경이 30개국 중 8위로 평가받았다.

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출처 : 추이기종 IP노믹스 기자, gjgj@etnews.com, ETNEWS

URL : http://www.etnews.com/20160322000065