발광다이오드(LED) 업체인 서울반도체는 최근 일본 렌즈업체인 엔플라스와 2년반 동안 미국에서 벌인 특허소송에서 승리했다. 미국 캘리포니아 북부 연방법원 배심원단은 서울반도체의 손을 들어주며 손해를 400만달러(약 47억원)으로 산정했다. 징벌적 배상 규정에 따라 손해액의 최대 3배까지 배상받을 수도 있다. 업계 관계자는 “미국의 경우 특허침해에 따른 평균 손해배상액이 국내보다 80배 이상 높다”며 “손해 배상액을 강화해 특허 침해를 사전에 방지하고 특허권자의 권리를 보호한다”고 말했다.

앞으로 국내에서도 특허를 침해하면 큰 돈을 배상해야 할 것으로 보인다.

10일 특허청에 따르면 특허 침해와 손해액 입증을 쉽게 하고 침해자의 손해배상 책임을 강화하는 내용을 담은 특허법 개정안이 3월 22일 국무회의를 통과해 지난달 29일 공포됐다. 개정법은 공포 후 3개월이 지난 6월 30일부터 시행된다.

개정 특허법에 따르면 특허 침해나 손해액 입증에 반드시 필요한 증거라면 영업비밀에 해당하는 자료라도 재판부가 강제로 제출을 명령할 수 있게 된다. 지금까지는 특허 침해자가 제조공정과 매출장부 등을 영업비밀이라고 주장하면 제출을 강제하기 어려웠다. 앞으로는 판사, 변호인 등만 열람하는 것을 조건으로 관련 자료제출을 강제할 수 있다.

특허 침해자가 자료 제출 명령을 따르지 않으면 재판부는 특허권자가 주장하는 사실을 그대로 인정할 수 있다. 특허권자가 주장하는 추정 손해액이 그대로 손해배상액으로 인정되는 것이다. 또 손해액 산정과 관련해서 법원이 감정을 명하면 특허 침해자 등 자료 제출 당사자는 관련 자료 내용을 감정인에게 설명해야 한다. 회계장부에는 작성자만 알 수 있는 복잡한 표기나 암호 등도 있기 때문이다.

특허청 관계자는 “특허 소송에서 재판부가 특허 침해 당사자에 자료 제출을 강제할 수 있도록 해 특허권자가 승소하는 데 유리해졌다”며 “이에 따라 특허권자가 받을 수 있는 손해배상액도 높아질 가능성이 높다”고 말했다.

특허청이 이처럼 법 개정에 나선 것은 중소기업이 기술탈취를 당해도 특허침해 입증에 어려움을 겪는 경우가 많고 손해배상액이 낮아 실질적인 보상을 못 받는다는 지적이 제기돼 왔기 때문이다. 특허청에 따르면 특허침해소송 손해배상액 중앙값(평균값)은 미국의 경우 2007~2012년 49억원이지만 한국은 5,900만원(2009∼2013년)에 불과하다. 보상액이 낮다 보니 특허를 담보로 한 기술금융도 활성화되지 못했고 기업들이 기술거래보다는 기술탈취를 시도하는 경우가 많았다.

박성준 특허청 산업재산보호협력국장은 “특허권자가 권리를 강화하는 방향으로 특허 소송 관련 법을 개정했다”며 “법 개정보다 법 적용이 더 중요하므로 법원에서 판결과정에서 개정법의 취지를 살려 줬으면 한다”고 hooni@sed.co.kr, 서울경제

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