디스플레이 연구회

특허-실용신안 심사지침서가 일부 개정되어 2011.7.1.자로 시행될 예정임을 알려드립니다. 주요 개정내용은 다음과 같습니다. □ 개정 특허법의 배경기술 기재에 관한 심사기준 신설 (2011.7.1. 이후의 특허,실용신안 출원에 대하여 적용): 제2부 제2309 - 2312쪽 - 특허를 받고자 하는 발명에 관한 배경기술일 것 - 배경기술의 구체적 설명을 적거나 적절한 배경기술이 개시된 선행기술 정보를 적으면 배경기술 기재한 것으로 인정 - 배경기술 미기재시 거절이유 통지를 받으면 출원인은 적절한 배경기술이 개시된 선행기술 정보를 추가하는 보정을 하여 거절이유 해소 가능 □ 한-미 PCT-PPH 시행에 따른 심사기준 신설(2011.7.1. 부터 우선심사신청 가능): 제7부 제7340 - 7342쪽 - 모든 청구항이 한국 또는 미국에서 수행한 국제조사/국제예비심사에서 신규성, 진보성, 산업상 이용가능성이 있다고 판단되었을 것 - 필요한 증빙서류 요건에 관한 세부 심사기준 제공 □ 전문기관 선행기술조사에 의한 우선심사신청 절차 보완: 제7부 제7345쪽 - 분할출원의 우선심사신청시에 원출원에 대한 전문기관 선행기술조사 결과를 활용할 수 있도록 제도 운영 개선 □ 기타 진보성 거절이유 통지시의 유의사항 추가, 주지관용기술의 증거자료 예시 수정 등 * 심사기준 관련 문의: 특허심사정책과 박기석 사무관(042-481-5399, kspark@kipo.go.kr) * PCT-PPH 등 우선심사 관련 문의: 특허심사정책과 권성호 사무관(042-481-5394, shkwon80@kipo.go.kr)