연구회세미나
차세대 반도체 노광기술로서 극자외선(EUV) 노광 |
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| 글쓴이 관리자 2015.01.30 13:48 | 조회수 2236 0 |
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일시 : 2014.09.05. 15:00~16:30 장소 : 4동 7층 멀티미디어실 발표자 : 최재성 상무(ASML 코리아)
주제 : EUV 노광의 원리, EUV의 상용화를 위한 과제 및 상용 제조공정에 투입된 사례 |
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