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보도자료 글내용
제목 2021년 한·중·일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최
담당부서 상표심사정책과(서나리 사무관) 연락처 042-481-3316
작성일 2021-06-14 조회 1378
2021년 한·중·일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최
- 한국, 중국, 일본 특허청이 제시하는 상표와 디자인 제도의 미래 -

□ 특허청(청장 김용래)은 오는 6월 30일(수)에 「2021년 한·중·일 상표·디자인 포럼」을 온라인으로 개최한다고 밝혔다. 

 ㅇ 그동안 별도로 운영되던 한·중·일 상표전문가회의와 디자인포럼을 처음으로 통합 개최함으로써 동북아를 대표하는 3국의 상표·디자인 정책의 흐름을 한눈에 파악할 수 있도록 하였다.

□ 이번 포럼에서는 ‘디지털 경제하의 상표와 디자인 보호’를 주제로 디지털 경제를 대비하는 각국의 상표·디자인 제도 변화와 운영전략에 대해 온라인 포럼을 진행하며, 실시간 질의·응답시간을 통해 300명의 한·중·일 사용자들과 각 특허청이 직접 소통하는 기회도 갖는다. 

 ㅇ 또한, 싱가포르 지식재산청의 샤먀인 우(Sharmaine Wu) 국장과 국제상표협회(INTA) 조윤경 변리사도 초청하여 아시아 지식재산 시장의 전략변화에 대해서도 알아본다.

□ 포럼은 화상회의 플랫폼을 통해 진행될 예정으로 참석을 원하는 사용자는 특허청 블로그(https://blog.naver.com/kipoworld2) 또는 네이버폼 링크(naver.me/5cTX8Jqr)를 통해 6월 14일(월)부터 23일(수)까지 신청 할 수 있으며 한국어, 중국어, 일본어가 동시통역으로 제공된다.

□ 특허청 목성호 상표디자인심사국장은 “최근 일본의 상표법과 중국의 전리법 개정에 따른 상표·디자인 전략을 모색할 수 있는 좋은 기회이므로 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다.”라고 밝혔다.
첨부파일 PDF 파일[특허청] 2021년 한·중·일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최.pdf

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